Program / Rok 1 / Semestr 2
Egzamin i zaliczenie

ZALICZENIE NA OCENĘ 3:  OBECNOŚĆ

 

Zaliczenie na ocenę 3 (dostateczną) ma miejsce na podstawie obecności. Listy obecności wykładane są na zajęciach. Uniwersytet Warszawski i inne uczelnie macierzyste mają prawo wglądu i weryfikacji obecności studentów na zajęciach. Można mieć 3 nieobecności, aby uzyskać ocenę dostateczną na podstawie obecności.

 

Osoby zainteresowane zaliczeniem na ocenę 3 bez podchodzenia do egzaminu pisemnego prosimy o kontakt w terminie od 1 czerwca 2016r. pod adresem mailowym biuro@fundacjaproarttech.pl  i przesłanie następujących informacji: imię i nazwisko, numer indeksu, ocena.

 

ZALICZENIE NA OCENĘ WYŻSZĄ NIŻ 3: EGZAMIN PISEMNY

 

Dla osób zainteresowanych zaliczeniem na ocenę wyższą niż 3, lub dla osób, które nie mają wystarczającej liczby obecności, egzamin odbędzie się w formie pisemnej (dwa pytania opisowe dotyczące treści wykładów oraz prezentowanych podczas zajęć filmów),
w następujących terminach:

 

I termin: 30.05.2016r. (poniedziałek)  godzina 17 lub godzina 19

II termin: 6.06.2016r. (poniedziałek) godzina 17 lub godzina 19

 

Egzamin odbywa się w gmachu Warszawskiej Szkoły Filmowej przy ul. Zajączka 7 - w budynku znajdującym się za budynkiem kina Elektronik. Prosimy o przyjście kilka minut wcześniej do holu głównego, aby wpisać się na listę obecności.

Rok 1
/  Semestr 1
Rok 1 / Semestr 2
Rok 2
/  Semestr 3
Rok 2
/  Semestr 4
Rok 3
/  Semestr 5
Rok 3
/  Semestr 6
Rok 4
/  Semestr 7
Rok 4
/  Semestr 8